艾司摩爾首台High-NA EUV曝光機 出貨英特爾

中央社

(中央社阿姆斯特丹21日綜合外電報導)荷蘭半導體設備製造商艾司摩爾(ASML)今天表示,已經將第一台高數值孔徑極紫外光(High-NA EUV)曝光機出貨給美國晶片製造大廠英特爾(Intel Corp.)。

路透社報導,每台新機器成本將超過3億美元,料將幫助電腦晶片製造商生產更小、更快的半導體。

艾司摩爾在社群媒體平台X上發布一張機器從荷蘭費爾德霍溫(Veldhoven)總部出貨的照片,並且發文表示:「我們很興奮也很驕傲,能夠向英特爾交付我們第一套高數值孔徑極紫外光系統。」

艾司摩爾在曝光機市場上居主導地位,曝光機利用雷射把電路圖印在晶片上。高數值孔徑機器組裝後比一輛卡車還大,將用250個單獨的貨箱運送,其中包括13個大型貨櫃,預計將於2026年或2027年開始用於商業晶片製造。

英特爾於2022年訂購首台高數值孔徑試驗機。已經訂購這款機器的晶片製造商還包括台積電、三星(Samsung)、SK海力士(SK Hynix)和美光(Micron)。(譯者:陳昱婷/核稿:何宏儒)1121222

新聞來源:中央社



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