中商務部長盼進口曝光機 荷官員強調安全可控前提

中央社

(中央社記者張淑伶上海28日電)中國商務部長王文濤昨天在北京向荷蘭貿易部長范李文表示,希望荷方確保製造晶片的曝光機貿易能正常進行。荷方則說,荷蘭出口管制「不針對任何國家」,安全可控仍是前提。

荷蘭首相呂特(Mark Rutte)訪問中國,范李文(Geoffrey van Leeuwen)隨行,並在27日與王文濤在北京會面。

根據中國商務部官網早上發布的內容,雙方談話重點是有關曝光機(中國稱光刻機)輸入中國和加強半導體產業合作等議題。

王文濤說,希望荷方秉持契約精神,支持企業履行合同義務,確保光刻機貿易正常進行。要防止「安全泛化」,共同維護全球半導體產業鏈供應鏈穩定,推動雙邊經貿關係持續健康發展。

范李文表示,中國是荷蘭最重要的經貿夥伴之一。但他強調,荷蘭出口管制不針對任何國家,所做決定基於獨立自主的評估,並在安全可控前提下盡可能降低對全球半導體產業鏈供應鏈的影響。

他並表示,期待荷中兩國進一步拓展綠色轉型、養老服務等領域合作。

荷蘭晶片設備製造商艾司摩爾(ASML)出售給中國的設備中,光是2023年價值就高達約60億歐元(約新台幣2082億元),為同年艾司摩爾的第2大市場,僅次於台灣,高於韓國。不過,艾司摩爾曾表示,今年起預計將無法從荷蘭政府得到向中國客戶運輸其先進「深紫外光曝光機」(Deep Ultraviolet lithography, DUV)設備的許可證。

美國之音(VOA)報導,范李文26日接受荷媒採訪時說,「保護艾司摩爾的利益是第一位的」,他也強調,「(荷蘭)自身的國家安全和合作夥伴的國家安全高於經濟利益。」

據報導,范李文今年2月在回覆荷蘭國會質詢時說,中國在科技領域的「軍民融合」戰略促使荷蘭政府作出限制對中國曝光機出口的決定。他說,「中國著眼於引進外國專業技術,包括荷蘭在微影製程領域的專業知識,以促進其在軍事技術發展自給自足。 」(編輯:陳鎧妤)1130328

新聞來源:中央社



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