中央社
（中央社東京3日綜合外電報導）日經亞洲（Nikkei Asia）今天報導，美國晶片大廠英特爾與日本官方研究機構將在日本設立先進半導體研發中心，以提振日本晶片設備製造與材料產業。
這座新的研發中心將在未來3到5年落成，擬配備極紫外光微影技術（EUV）設備。設備製造商與材料商只要繳交費用，就能使用設備進行測試與試作。這是日本第一座供廠商共用EUV曝光機的研發中心，也是日本研究機構首度導入EUV曝光機。
隸屬於日本經濟產業省（經產省）的產業技術綜合研究所（AIST）將負責營運這座研發中心；而英特爾將提供使用EUV技術製造晶片的專業知識。這座研發中心的總投資額上看數百億日圓。
EUV在製造5奈米以下先進晶片扮演重要角色，不過一台EUV設備動輒要價逾400億日圓，並非是許多材料商與設備商可單獨負擔的價格。
而資金不夠雄厚的廠商目前只能使用海外研究單位的EUV設備來研發產品，例如比利時微電子研究中心（IMEC）；此外，日本政府與8家民間企業合資的晶圓代工廠Rapidus計劃今年12月引進EUV設備，以便製造產品，不過日本研究機構目前尚無這類設備。
隨著美中科技競爭日趨激烈，美國已經加強管制對中國EUV相關出口，其中包含設備與材料，不過管制措施也導致廠商從海外研究機構回收數據到日本之際更加耗時。未來日本國內就能使用EUV曝光機，就能減少管制帶來的阻礙。
荷蘭設備商艾司摩爾控股公司（ASML Holding）主宰EUV曝光機市場，不過生產晶片需要經過超過600道製程，而相關設備與材料的發展也在生產晶片上至關重要。
日本企業之中，雷泰光電（Lasertec Corp）在EUV相關檢測設備市場中舉足輕重，光阻劑大廠JSR在製造晶片電路所需的感光材料方面具有優勢，而英特爾希望透過建立新的研發中心，與這些材料、設備供應商加強關係。（譯者：楊惟敬/核稿：劉文瑜）1130903
新聞來源：中央社
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