中央社
（中央社台北28日電）韓聯社報導，韓國晶片大廠SK海力士（SK Hynix）的一名中國籍女性員工A某，4月底因涉嫌向中國華為洩露有關降低晶片不良率的核心技術資料被捕，且被檢方起訴，目前正接受法院審理。
韓國京畿道南部地方警察廳產業技術安全偵查隊今天表示，現年30多歲的A某涉嫌違反韓國「防止產業技術洩露及保護法」，在被捕且遭起訴後，全案正由水原地方法院驪州分院審理。
根據報導，A某於2013年進入SK海力士，之後一直在專責不良晶片分析的部門工作，並於2020至2022年在SK海力士中國分公司擔任組長，負責企業交易客戶洽談。但在2022年6月A某返回韓國後，就立即跳槽到華為。
據調查，A某離職前，曾用3000多張A4紙列印出涉及核心半導體工序問題解決方案的資料。而SK海力士禁止員工使用隨身碟相關設備，且對文件列印內容、列印人、文件用途等資訊進行詳細記錄和管理。
報導指出，A某當時留下了列印文件的記錄，但用途並未被SK海力士掌握。韓國警方認為，A某將列印的紙張分批轉移至外部，但A某矢口否認涉及相關嫌疑行徑。
上述事件發生後，韓國警方接獲SK海力士報案，對A某的涉案情節展開嚴密調查，並於4月間A某入境韓國時，在機場將她逮捕。（編輯：邱國強）1130528
新聞來源：中央社
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