中央社
（中央社台北27日電）荷蘭晶片設備製造商艾司摩爾（ASML）執行長福克近日表示，由於美國對中國禁止出口極紫外光（EUV）曝光設備，導致中國無法獲得尖端曝光機，中國晶片技術將落後西方10至15年。
綜合香港阿思達克財經平台、經濟日報今天的消息，福克（Christophe Fouquet）日前接受荷蘭「商務日報」（NRC Handelsblad）專訪，提及美國晶片限制對中國晶片製造業的影響。
福克說，透過禁止出口極紫外光曝光技術，中國技術目前落後於西方約10至15年，「這些措施確實展現效果」。
福克並表示，即使ASML無法向中國供應最先進的EUV技術，「中國晶片製造業仍在奮勇前進，在各環節都有一定基礎，持續自主發展」；而不論是中國、美國或是其他政府，都會視ASML為一塊關鍵拼圖。
對於近月屢次傳出美國要求荷蘭禁止ASML為中國用戶提供維修服務，福克表示，ASML希望可以管理公司在中國的機器，若中國公司自行維修設備以保持晶片工廠運轉，更可能出現資訊外洩情況，「希望川普政府很快能明白個中邏輯」。
全球約90%晶片由ASML曝光系統生產。隨著先進製程向5奈米及以下進化，EUV成為未來曝光技術和先進製程核心，主要用於7奈米及以下先進晶片製造製程，ASML是唯一供應商。（編輯：周慧盈/楊昇儒）1131227
新聞來源：中央社
讀者迴響