中央社
（中央社台北28日電）中國實施「反間諜法」後已有17名日本公民被拘押，引發日方抗議，近期日本公布逮捕一名中國籍研究人員，認為可能洩漏情報；對此，今天中方籲日方為兩國科技交流合作創造良好環境。
中國駐日本大使館今天以答記者問方式回應日方逮捕一名中國籍研究員，正在推進調查時作以上表示。
中方指出，對事件高度關注，已透過外交管道向日方表達嚴重關切，要求日方切實尊重法律和事實，確保中國公民合法權益。
中國使館表示對相關人員進行領事探視。希望日方遵守市場經濟和公平競爭原則，為兩國科技交流合作創造良好環境。
日媒6月中旬報導，一名中國籍產業技術研究人員遭日本警方逮捕，日方認為他可能參與中國政府的「千人計畫」並洩漏情報。
中國自2015年實施「反間諜法」以來，已有17名日本公民遭中國情治單位拘押。最近的一名被捕者是安斯泰來製藥（Astellas Pharma）的高階主管，他是在今年3月底被捕，日方已多次向中方表達抗議。
日本外相林芳正今年4月訪中，與中國國務委員兼外長秦剛會談時要求中方釋放被扣押的5名日本人，包括被指從事間諜活動的日本公民。但秦剛當時強調，中方將依法處置。（編輯：唐佩君/曹宇帆）1120628
新聞來源：中央社
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