中央社
(中央社華盛頓29日綜合外電報導)美國和荷蘭將在今年夏季藉由進一步限制晶片製造設備的銷售,來接連打擊中國晶片製造商。這是兩國持續努力要防止其技術被用來壯大中國軍力的其中一環。
在荷蘭計劃限制半導體設備龍頭艾司摩爾(ASML)和其他企業某些設備出口中國之際,美國預料將更進一步,利用其長遠影響力從特定中國晶圓廠扣住更多荷蘭設備。
美國去年10月以國安為由,對科林研發(Lam Research)和應用材料(Applied Materials)等美國企業出口晶片製造工具實施出口限制,並遊說其他主要供應商的國家採取類似行動。
中國駐美大使館發言人劉鵬宇對美國此舉予以譴責,稱美方「蓄意封殺、束縛中國企業,強行搬遷產業,推動脫勾」,還稱中方會「密切關注事態發展、堅定維護自身利益」。
擁有晶片設備製造商尼康公司(Nikon Corp)、東京威力科創公司(Tokyo Electron Ltd.)的日本,通過限制23種半導體製造設備出口的規定,並將在7月23日生效。
荷蘭政府計劃30日宣布新規定,要求艾司摩爾第2大產品深紫外光曝光機(Deep Ultraviolet lithography, DUV)設備出口前需先提出許可申請。在此之前,艾司摩爾最精密的極紫外光曝光機(Extreme ultraviolet, EUV)已經受限,禁止出口到中國。
艾司摩爾曾於3月表示,預料荷蘭這項規定,將影響TWINSCAN NXT:2000i和其他更精密的設備。
不過艾司摩爾較舊型的DUV設備,如TWINSCAN NXT:1980Di等,也可能遭美國限制出口給中國6家企業。知情人士表示,預料在新的規定中,外國設備就算只用了少量美國零件,也不得賣給法令中點名的6家中國企業。
消息人士表示,荷蘭新的規定不會立即生效。一名人士則表示,預料9月才會生效。
至於美國擬定的新規定,消息人士透露,可能會在7月下旬公布,將要求設備出口給6家中國企業時,必須先獲得許可,其中包括中國最大晶片製造商中芯國際(SMIC)經營的晶圓廠。但該人士說,許可證可能會遭駁回。
美國新的規定預料將適用於全球領先的晶片設備製造商、荷蘭最大企業艾司摩爾,因為其系統包含美國的零件。(譯者:李晉緯/核稿:陳昱婷)1120630
新聞來源:中央社
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