中央社
（中央社記者劉千綾、張建中台北19日電）美光昨天宣布在日本砸36億美元投入1-gamma先進製程，據知情官員透露，台灣美光向經濟部強調在台研發計畫持續推進，沒有改變；台灣美光今天也說，計劃2025年率先在台灣量產1-gamma動態隨機存取記憶體（DRAM）製程節點。
國際半導體大廠美光昨天宣布，將在日本政府大力支持下，預計未來數年在1-gamma製程技術投資5000億日元，約36億美元，同時也會將極紫外光（EUV）晶片製造引入日本。
由於美光為台灣最大投資外商，知情官員表示，美光宣布在日本投資一案前，已向經濟部說明相關計畫，包含美光在台灣的研發計畫持續推進，沒有任何改變。
美光表示，1-gamma製程節點研發上取得良好進展，計劃於2025年率先在台灣量產1-gamma動態隨機存取記憶體（DRAM）製程節點。
美光進一步說，台灣后里A3廠去年已導入極紫外光（EUV）設備，預計在1-gamma製程量產採用。隨著EUV設備與基礎設施的部署，隨後於日本進行量產。
美光強調，台灣美光和日本團隊將緊密合作，加速1-gamma的開發進程，預估2025年投產。（編輯：潘羿菁）1120519
新聞來源：中央社
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